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» MHY-26376匀胶台 是用于半导体、集成电路及激光全息商标制造过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上进行涂布光刻(感光)胶的专用设备。
MHY-26376匀胶台 是用于半导体、集成电路及激光全息商标制造过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上进行涂布光刻(感光)胶的专用设备。
发布时间:2016-09-13 阅读:
1403
次
数显匀胶台/匀胶台
型号:MHY-26376
本机是用于半导体、集成电路及激光全息商标制造过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上进行涂布光刻(感光)胶的专用设备。本机的工作原理是利用高速旋转时产生的离心力,将滴于基片上多余的光刻(感光)胶液甩去,在光刻(感光)胶表面张力和离心力的共同作用下,展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率高、使用方便等优点,匀胶速度和匀胶时间分别可调,电器电路具有较高的稳定性,结构合理,旋转平稳,转速、时间采用数字显示,直观性强。本机可与光刻机配套使用。
主要技术参数:
1、工作电压: 380V/220V
2、整机功率: 1200W
3、匀胶时间控制范围: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分
4、转速:
0-8000Rpm
5、装片直径(可根据用户要求定制): ф35-75mm
6、匀胶工位(可根据用户要求定制): 1-4工位
7、外形尺寸: 长*宽*高 850*810*1600mm
8、净重: 120kg
本机是用于半导体、集成电路及激光全息商标制造过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上进行涂布光刻(感光)胶的专用设备。本机的工作原理是利用高速旋转时产生的离心力,将滴于基片上多余的光刻(感光)胶液甩去,在光刻(感光)胶表面张力和离心力的共同作用下,展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率高、使用方便等优点,匀胶速度和匀胶时间分别可调,电器电路具有较高的稳定性,结构合理,旋转平稳,转速、时间采用数字显示,直观性强。本机可与光刻机配套使用。
主要技术参数:
1、工作电压: 380V/220V
2、整机功率: 1200W
3、匀胶时间控制范围: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分
4、转速:
0-8000Rpm
5、装片直径(可根据用户要求定制): ф35-75mm
6、匀胶工位(可根据用户要求定制): 1-4工位
7、外形尺寸: 长*宽*高 850*810*1600mm
8、净重: 120kg
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